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微导纳米申请石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟专利,降低片材镀膜面上...金融界2024年6月21日消息，天眼查知识产权信息显示，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟“公开等会说。 本发明减小了卡点帽遮盖待镀膜面的面积，降低了寄生电场的产生概率，进而降低片材镀膜面上卡点印的概率，且降低了卡点帽卡装的片材从卡点等会说。
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汇成真空:5G高频高速覆铜板用大面积柔性纳米薄膜镀膜设备项目在研中金融界6月11日消息，有投资者在互动平台向汇成真空提问：贵公司的研发向5G高频高速覆铜板用大面积柔性纳米薄膜镀膜设备进展如何？公司回答表示：该项目在研中，详情已在招股书中披露。本文源自金融界AI电报
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菲沃泰:PECVD纳米镀膜设备按照5年加速折旧,技术更新不会导致设备...金融界10月12日消息，菲沃泰在互动平台表示，公司PECVD纳米镀膜设备按照5年加速折旧。另外，公司已建立完善的研发体系，具备持续的创新能力，可以根据客户产品实际使用需求在原有设备上进行技术改进，生命周期内一般不存在因技术更新导致设备提前报废的可能。本文源自金融界A好了吧！
微导纳米申请镀膜腔室以及镀膜设备专利,待处理物不易损坏金融界2023年12月20日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“镀膜腔室以及镀膜设备“公开号CN117248193A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本申请涉及一种镀膜腔室以及镀膜设备，包括：腔体，腔体包括相对设置的盖板和底板、以及位于好了吧！
微导纳米申请镀膜设备专利,简化整体结构金融界2024年4月10日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“一种镀膜设备的支撑组件及镀膜设备“公开号CN117845182A,申请日期为2024年1月。专利摘要显示，本申请涉及一种镀膜设备的支撑组件及镀膜设备，其中，镀膜设备的支撑组件用于支撑小发猫。
微导纳米申请一种镀膜设备专利,该设备可以有效防止双石墨舟电场...金融界2023年12月25日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“一种镀膜设备“公开号CN117275852A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明公开了一种镀膜设备，包括第一石墨舟和第二石墨舟，所述第一石墨舟和第二石墨舟分别设有舟脚并是什么。
微导纳米申请真空镀膜方法专利,提高镀膜质量金融界2023年12月23日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“真空镀膜方法“公开号CN117265511A,申请日期为2023年9月。专利摘要显示，本申请公开了真空镀膜方法。真空镀膜方法包括将基材放入工艺腔体；向工艺腔体控制输入已加热的惰性后面会介绍。
微导纳米申请载具及镀膜设备专利,能够避免或者降低局部高频打弧的...金融界2024年4月8日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“载具及镀膜设备“公开号CN117821949A,申请日期为2024年2月。专利摘要显示，本申请涉及一种载具及镀膜设备，其中，载具包括导电舟体和设于导电舟体底部的支撑件，支撑件包括支撑舟后面会介绍。
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微导纳米取得半导体镀膜技术专利,实现膜厚均匀性更好金融界2024年1月1日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司取得一项名为“一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法“授权公告号CN116411343B,申请日期为2023年6月。专利摘要显示，本申请涉及一种反应设备、半导体镀膜设备及其镀膜方法。其中反应设说完了。
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DZOFILM 东正 Arles T1.4 大光圈电影镜头发布,单支 15699 元Arles 系列镜头采用多层纳米镀膜工艺，减少镜片表面反射；结构内部采用超级哑黑工艺，抑制杂光漫反射。据介绍，该系列镜头使用16 片光阑叶片，宣称能营造“悦目怡人的圆润散景”，并且全系列内置浮动镜组结构，提升近摄光学表现。光学设计方面，14mm、21mm 与25mm 各使用了两片小发猫。
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金融界2024年6月21日消息，天眼查知识产权信息显示，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟“公开是什么。 本发明减小了卡点帽遮盖待镀膜面的面积，降低了寄生电场的产生概率，进而降低片材镀膜面上卡点印的概率，且降低了卡点帽卡装的片材从卡点是什么。
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金融界2024年6月21日消息，天眼查知识产权信息显示，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“石墨舟卡点、石墨舟片及石墨舟“公开还有呢？ 本发明减小了卡点帽遮盖待镀膜面的面积，降低了寄生电场的产生概率，进而降低片材镀膜面上卡点印的概率，且降低了卡点帽卡装的片材从卡点还有呢？
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金融界2024年6月18日消息，天眼查知识产权信息显示，江苏微导纳米科技股份有限公司申请了一项名为“反应设备、半导体镀膜设备以及用于反应设备的清洁方法”的专利，公开号CN202410302348.X,申请日期为2024年3月。专利摘要显示，本申请提供了反应设备、半导体镀膜设备以及说完了。
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